親愛的客戶您好:
誠摯邀請您蒞臨參觀: 尚鈦光電科技 SEMICON TAIWAN 台灣半導體展覽: 9/4⁓9/6
地點:台北南港展覽二館1樓, 展位: No. Q5242
靜電消除設備Alpha Ionizer /靜電門禁監控系統 - • Particle free、離子自動平衡式靜電消除設備
- • 半導體製程設備Alpha Ionizer靜電消除設備
- • 人員靜電接地、機台工作台靜電接地監測、靜電高阻抗計
全氟化(FFKM) /氟化橡膠(FKM)密封材料 - 半導體、玻璃面板製程: 薄膜、蝕刻、濕製程、Pump管線
- • 優異表面處理、電漿轟擊下低Particles產生量
- • 極佳耐電漿能力,依需要選擇: 耐熱性、耐化學藥品性各
- 種材料
- • Particle粒子去除專用黏筆/黏塵滾輪/Stick Cleaner拋
- 棄式黏棒
無塵擦拭棒 /防靜電清潔滾輪與設備 - • 適用於半導體封裝、CMOS sensor、光纖通訊產業
- • Particle粒子去除專用黏筆/ Stick Cleaner拋棄式黏棒
- • 自動清潔滾輪設備/ 手動黏塵滾輪
無塵與防靜電產品 / INTERCEPT防銹/防靜電長效型儲存包裝材 - • 無塵紙/導電紙/無塵筆記本與檔案夾/無塵複寫紙/標籤
- 紙/便利貼
- • 防靜電L型夾與護貝膜/導電紙/防靜電包裝袋
- • IC晶圓保護間隔紙/玻璃與金屬框墊片
- • Kimwipe擦拭紙/防割、耐熱手套
- • 無塵衣帽鞋/手套/口罩/無塵室吸塵器/晶圓吸筆
無塵室落塵監測/表面粒子污染檢測 / 無塵室測試 /人員帶靜電測試 - • ISO14644-17 Real Time監測:APMON落塵監測分析
- 與防治
- • ISO-14644-9, -13/ VDA19.2產品表面particle污染粒徑
- 分布、產品與工作區域清潔前後之清潔效率與清潔頻率
- 分析評估
超音波濃度計/黏度計 In-line監測 - • CMP slurry濃度/CMP slurry H2O2濃度監測
- • 濕製程化學品濃度監測: HF、H2SO4、NH3、H2O2
Stripper :TMAH、TEAH、KOH…等In-line濃度監測
minimal Fab研發 /小批量型半導體製程設備 - • 使用5” wafer在minimal Fab半導體製程設備上做研發
- 產品驗證
- • 無需設置在無塵潔淨環境、快速進行產品試做驗證、較
- 低投資成本費用
- • 應用於MEMS、光電半導體…等小批量,與多樣性產品
- 生產
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